电子束曝光机 电子束曝光机与普通光学曝光机有哪些区别

2020-02-24 00:21:53 来源：朵拉利品网

1, 电子束曝光机与普通光学曝光机有哪些区别

平行曝光机的主要特点
这个类型的设备只有一个灯管，曝光台面也是分有上下方两个镜子，使用的是光线折射的原理。当两个面同时进行曝光的时候，上下灯的曝光是分开的。上等先进行曝光，一面镜子将光线反射到台面的上方镜子，然后再折射到曝光台面上。下灯曝光时，光线是直接直射到下方的镜子里然后在折射到台面上，因此说使用品行曝光机进行曝光的时候，上灯的能量会比下灯的能量要更大一些，曝光及级数才会一样。
散光曝光机的主要特点
这个设备在曝光的时候灯光是直接进行照射的，就像点灯一样，上下灯在两面都是同时进行曝光的。

3, 什么是电子束曝光技术？

紫外线曝光机是指通过开启灯光发出UVA波长的紫外线，将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的设备。曝光机即电子束曝光机是集电子光学、电气、机械、真空、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备。常见曝光机举例：MYCRO美国制造的恩科优（N&Q）紫外曝光系统，适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。NXQ400-6系统成功地应用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或复晶设备和其他要求精细印制和精度对准的应用。
更广范围（UV,DUV,NUV）的紫外光波长选择，出射光强范围： 8mW/cm2~40mW/cm2
支持恒定光强或恒定功率模式
广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领。
常见曝光机举例：MYCRO美国制造的恩科优（N&Q）紫外曝光系统，适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。NXQ400-6系统成功地应用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或复晶设备和其他要求精细印制和精度对准的应用。

名词解释

曝光

曝光是指将感光板置于晒版机工作台上，放好底片，通过曝光 获得一种潜在或可见图像的过程。曝光是一切光化学成像方法的基本过程与主要特征。 曝光，曝光模式即计算机采用自然光源的模式，通常分为多种，手动曝光、自动曝光等模式。照片的好坏与曝光有关，也就是说应该通多少的光线使感光元件能够得到清晰的图像。曝光量由通光时间（快门速度决定），通光面积（光圈大小）决定。

紫外光

紫外光是电磁波谱中波长从0.01~0.40微米辐射的总称，不能引起人们的视觉。电磁谱中波长0.01~0.40微米辐射，既可见光紫端到X射线间的辐射。具有杀菌的功能。

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